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Vorlesungen

Experimentalphysik
    Elektrizität und Magnetismus, PTI 216 u. PTI 416
    Thermodynamik, PTI 413
    Physik als Nebenfach, PTI 300 u. PTI 301

Physikalische Verfahrenstechnik
    Dünnschichttechnik, PTI 425
    Vakuumtechnik, PTI 425

Vakuum- und Plasmatechnologien
    Vakuumtechnologien, PTI 552

 
     

Vorlesungen zu Vakuumtechnologien im Master

   

Inhalt der Vorlesung
Die Vorlesung umfasst insgesamt 15 Doppelstunden mit den folgenden Schwerpunkten:
TEIL A - Grundlagen der Keimbildung und des Schichtwachstums

  • Schichtwachstum
  • Oberflächendiffusion
  • Atomistische Theorie der Keimbildung
  • Wachstumsformen von stabilen Keimen und Inseln

TEIL B - Beschichtungsverfahren

  • Molekularstrahlepitaxie (MBE)
  • Metallorganische Gasphasenabscheidung (MO-CVD)
  • Atomlagenabscheidung (ALD)

Literatur

 

Vakuumbeschichtungsanlage für die Atomlagenabscheidung (ALD = atomic layer deposition) an der Westsächsischen Hochschule Zwickau (WHZ).


Schematische Darstellung der Prozessschritte bei der ALD.


 

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