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Vorlesungen

Experimentalphysik
    Elektrizität und Magnetismus, PTI 216 u. PTI 416
    Thermodynamik, PTI 413
    Physik als Nebenfach, PTI 300 u. PTI 301

Physikalische Verfahrenstechnik
    Dünnschichttechnik, PTI 425
    Vakuumtechnik, PTI 425

Vakuum- und Plasmatechnologien
    Vakuumtechnologien, PTI 552

 
     

Vorlesungen zur Dünnschichttechnik im Bachelor

   

Inhalt der Vorlesung
Die Vorlesung umfasst insgesamt 15 Doppelstunden mit den folgenden Schwerpunkten:

  • Einführung: Einteilung dünner Schichten, Anwendungsbeispiele, Verfahren der Dünnschichttechnik
  • Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD): Grundprinzip, Varianten, Vor- und Nachteile
  • Verdampfung im Vakuum: Verdampfungsströme, Restgaseinfluss, Verunreinigungen, Schichtdickenverteilung, Materialien, Anlagentechnik, Schichtwachstum und -struktur, Anwendungen
  • Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering): Diodensputtern, Magnetronsputtern, Gepulste Magnetrons, HF-Sputtern, Ionenstrahlsputtern, reaktives Sputtern, Struktur und Eigenschaften gesputterter Schichten, Anlagentechnik, Anwendungen
  • Beschichtung mit Lasern: Laser-Arc- und Puls-Laser-Deposition, Vor- und Nachteile, Anwendungsbeispiele
  • Plasmagestützte Schichtabscheidung: Prinzip, Prozesse im Plasma, Reinigung von Oberflächen, Schichtstruktur und -eigenschaften, reaktives Ionenplattieren, Anlagentechnik, Anwendungen
  • Ionenstrahlgestützte Schichtabscheidung: Prinzip, Ionenimplantation, Anwendungen
  • Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): Prinzip, chemische Reaktionen, Prozessführung, CVD-Varianten
  • Schichtmesstechnik: Dickenmessung, Dichtemessung, Härtemessung, Rauheitsmessung

Literatur

 

Vakuumbeschichtungsanlage für die Magnetron-Sputter-Deposition (MSD) an der Westsächsischen Hochschule Zwickau (WHZ).


 

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