Inhalt der Vorlesung
Die Vorlesung umfasst insgesamt 15 Doppelstunden mit den folgenden Schwerpunkten:
- Einführung: Einteilung dünner Schichten, Anwendungsbeispiele, Verfahren der Dünnschichttechnik
- Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD): Grundprinzip, Varianten, Vor- und Nachteile
- Verdampfung im Vakuum: Verdampfungsströme, Restgaseinfluss, Verunreinigungen, Schichtdickenverteilung, Materialien, Anlagentechnik, Schichtwachstum und -struktur, Anwendungen
- Ionenzerstäubung von Festkörpern (Sputtering): Diodensputtern, Magnetronsputtern, Gepulste Magnetrons, HF-Sputtern, Ionenstrahlsputtern, reaktives Sputtern, Struktur und Eigenschaften gesputterter Schichten, Anlagentechnik, Anwendungen
- Beschichtung mit Lasern: Laser-Arc- und Puls-Laser-Deposition, Vor- und Nachteile, Anwendungsbeispiele
- Plasmagestützte Schichtabscheidung: Prinzip, Prozesse im Plasma, Reinigung von Oberflächen, Schichtstruktur und -eigenschaften, reaktives Ionenplattieren, Anlagentechnik, Anwendungen
- Ionenstrahlgestützte Schichtabscheidung: Prinzip, Ionenimplantation, Anwendungen
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): Prinzip, chemische Reaktionen, Prozessführung, CVD-Varianten
- Schichtmesstechnik: Dickenmessung, Dichtemessung, Härtemessung, Rauheitsmessung
Literatur
Link zum OPAL-Kurs mit ergänzenden Vorlesungsunterlagen und Praktikumsanleitungen
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Vakuumbeschichtungsanlage für die Magnetron-Sputter-Deposition (MSD) an der Westsächsischen Hochschule Zwickau (WHZ).
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